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    聯系人:范先生
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    地址:上海市松江區滬亭南路299弄38號
    這款小型PECVD,其腔體為 3*dia× 16“L的石英腔體,而且加熱圈在石英腔體內部對樣品進行加熱,此系統配有2通道混氣系統和雙旋機械泵。整套儀器都按放在一個移動架上,以便于實驗操作。等離子腔體內部的最高溫度可以達到400℃,采用程序化控溫。此款小型廉價的PECVD系統對于薄膜生長和納米線的制作是一款很好的選擇。《查看更多》
    OTF-1200X-III-R5-PECVD是一款1200℃等離子增強化學氣相沉積三溫區回轉管式爐系統(R-PECVD),等離子增強系統的引入可在相對較低的溫度下實現粉末表面的包覆復合、核殼結構制備等工藝過程。自動進出料系統可實現連續生產,可保證在氣氛保護環境下進行粉體的進給和收集,包含射頻電源(帶自動匹配功能)、四通道質子流量計控制系統及真空泵系統,可由PLC觸摸屏或PC電腦控制,使用方便快捷。《查看更多》
    OTF-1500X-III-4CV-PE-SL是一款三溫區1500℃的PECVD管式爐系統,該設備由射頻電源、1500℃三溫區管式爐、多通道質子混氣系統和真空系統組成。此款PECVD系統可廣泛應用于生長納米線、石墨烯及薄膜材料領域。《查看更多》
    OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE是一款1200℃PECVD等離子體增強氣相沉積由射頻電源、雙溫區管式爐、4通道質子流量計控制系統、性能優異的真空泵及水冷機組成。此套完整的設備系統特別適合用于無機復合粉末的熱處理以及粉未表面的改性處理工藝中(如:粉體摻雜(空穴、間隙原子)、表面改性、表面包覆及制備鋰離子電池陰極粉末的導電涂層等)。《查看更多》
    OTF-1200X-50-1I-4CV-PE-MSL是一款雙溫區的PECVD管式爐系統,組成部分為500W的射頻發生器、滑動速度可控的雙溫區滑軌爐,預熱爐(作用為使固體原料蒸發)和德國進口的無油泵。此款PECVD對于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。《查看更多》
    OTF-1200X-PESDFG-50是一款雙爐體滑動的PECVD系統,連接循環手套箱。此款設備中石英爐管與循環手套箱連接,可利用CVD方法,將樣品處理后直接移入到氣氛保護環境下的手套箱中。爐體采用滑動式,可在實驗室中對樣品進行快速加熱和快速冷卻。此款儀器特別適合新一代納米材料和二維晶體材料的探索研究。《查看更多》
    OTF-1200X-1I-4CV-PE-SL是一款滑動式雙溫區PECVD 管式爐系統。該系統包含等離子射頻電源,80mm 0D1800mm L的滑動式雙溫區管式爐,4通道質量流量供氣系統和機械泵機組,可用于生長納米或石墨烯材料。《查看更多》
    OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型滑動開啟式PECVD系統。此套設備配有等離子射頻電源,直徑為50mm的開啟式管式爐(帶有真空法蘭和連接管道)及機械泵組成。該設備模型可更新為不同類型的PECVD 系統,且設備性價比較為理想《查看更多》
    OTF-1200X-50S-PE是一款小型等離子體氣相沉積管式爐系統(PECVD)。該設備配有等離子射頻電源,開啟式管式爐(帶有真空法蘭和連接管道)及一個直聯式雙旋機械泵。此套設備模型可組合為不同類型的PECVD系統,且設備性價較為理想。《查看更多》
    為使化學反應能在較低的溫度下進行,常利用等離子體的活性來促進反應,這種方法稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)。加熱爐設備的內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層,可提高設備的加熱效率,同時也可延長設備的使用壽命。《查看更多》
    OTF-1200X-80-I-4CV-CMPE-SL是傳統PECVD與開發的智能通訊模塊組合,可對傳統PECVD實現自動化升級可自由搭配各種系統控制組合自定義CVD系統。是一款滑動式雙溫區PECVD 管式爐系統。該系統包含等離子射頻電源,100mm OD1800mm L的滑動式雙溫區管式爐,4通道質量流量供氣系統和機械泵機組,可用于生長納米或石墨烯材料。《查看更多》
    PECVD-8-16是一款平行板電容式PECVD系統,適用于中小式生產和實驗,可放置12片6英寸基片。此系統組成:8英寸石英管管式爐,最高溫度為1100℃,一個批量型石墨舟(可放12片基片),1000W射頻電源,和一個4通道混氣系統。此設備特別適用于太陽能電池和二維材料,擴產前測試實驗。《查看更多》
    為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD),內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命。《查看更多》
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