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    公司名稱:上海添時科學儀器有限公司
    聯系人:范先生
    固話:021-54338590
    手機:18016035557
    地址:上海市松江區滬亭南路299弄38號
    GSL-1800X-ZF4蒸發鍍膜儀是一款高真空的蒸發鍍膜儀,特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜(如Ti、Al 、Au等)和小分子的有機物。本機設有4個蒸鍍加熱舟,每個加熱舟都可獨立進行蒸鍍,加熱舟上方有一個可旋轉擋板,當其中一個加熱舟進行蒸鍍時擋板將其它三個鎢舟遮住,以防蒸鍍材料之間相互污染。《查看更多》
    MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機通過一個加熱平臺來控制基底溫度,從而加速薄膜的干燥速度,加熱平臺的加熱溫度可高達500℃,在此溫度范圍內基本可以滿足絕大多數實驗的需要。《查看更多》
    靜電紡絲法是一種利用高壓電場的作用,將聚合物溶液或熔體紡絲成尺度在微米到納米級的細纖維的簡單而有效的加工工藝,即聚合物噴射靜電拉伸紡絲法。由于靜電紡絲制備的纖維比傳統的紡絲方法細得多,直徑一般在數十到上千納米,并且由電紡加工方法制備的互聯孔納米纖維材料具有極大的比表面積,同時纖維表面還會形成很多微小的二次結構,因此有很強的吸附力以及良好的過濾性、阻隔性、粘合性和保溫性等。《查看更多》
    VTC-100PAH真空旋轉涂膜機適用于半導體工藝、晶體、光盤、制版及表面涂覆等工藝,可用于強酸、強堿涂覆溶液。樣件固定采用真空吸附方式。使樣件取放自如,操作簡單。電機啟動快速度穩定,可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。VTC-100PAH真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便,體積小巧等優點,主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。《查看更多》
    MSK-AFA-II-VC自動涂布機廣泛用于各種高溫涂膜研究,例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜等。MSK-AFA-II-VC自動涂布機采用真空吸附方法來對基片進行固定,使得在涂布過程中基片無褶皺現象產生,從而使得涂布更加均勻順暢。膜的寬度保持不變,制膜厚度可根據刮刀上方的千分尺進行調節,刮刀與基片間的間隙小,則所制備薄膜厚度??;刮刀與基片間的間隙大,則所制備的薄膜厚度厚。《查看更多》
    PTL-6PB 六工位提拉機一次可提拉一個樣件,通過程序控制使樣件逆時針旋轉,在裝料燒杯中浸沒一定時間后提拉出來進行干燥,浸沒時間和干燥時間可以通過程序進行設置。PTL-6PB六工位提拉機的六個裝料燒杯中可以裝同一種薄膜材料,也可以分裝不同的薄膜材料。該機設有六個溫控表,可在涂膜過程中對裝料燒杯進行加熱,可以設置相同的溫度進行加熱,也可以設置不同的溫度進行加熱,根據燒杯內所裝薄膜材料而定。《查看更多》
    磁控濺射儀可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點,可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。《查看更多》
    高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點,可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。《查看更多》
    磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備,適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設備采用先進的磁控濺射鍍膜技術,配備直流、射頻磁控濺射系統,適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導電膜、合金膜、介質膜等。《查看更多》
    GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應,使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積(PVD)制備薄膜技術的一種。設計而成的簡單、可靠、經濟的鍍膜設備,適用于實驗室各種復合膜樣品的制備,以及非導體材料實驗電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實驗室制備掃描電鏡樣品使用,且設備體積小巧,《查看更多》
    VGB-600-3HD薄膜電池制備系統可在手套箱內進行實驗操作,用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該系統配置三個靶槍,一個配套射頻電源通過轉換開關可以分別連接至任一靶頭,用于各類靶材的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗《查看更多》
    VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,《查看更多》
    VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,可選擇強磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使《查看更多》
    VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗《查看更多》
    VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣《查看更多》
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